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总投资35亿元,清溢光电掩膜版生产基地(佛山南海)项目开工—IM电竞体育官方网站

发表时间:2024-05-31

据“南海丹灶”公众号消息,3月18日,总投资35亿元的深圳清溢光电股份有限公司“平板显示及半导体用掩膜版”生产基地(佛山南海)建设项目开工仪式在南海丹灶举行。

据悉,项目总投资35亿元,将建设平板显示配套掩膜版生产线、半导体IC配套掩膜版生产线,实现250—28nm光掩膜版量产,满足8寸和12寸晶圆厂掩膜版需求。佛山市副市长文曦表示,清溢光电的落地将有助于推动佛山市新型显示及半导体产业集聚化、链条化发展,打造新型显示及半导体产业高质量发展的新增长点和新亮点。

据了解,在半导体芯片掩膜版领域,清溢光电已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产,已实现150nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证,正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划,主要工艺技术已处于国内同行业领先水平。

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